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          CVD系統(tǒng)

          更新時(shí)間:2013-07-04    點(diǎn)擊次數(shù):7532

          天津中環(huán)高真空CVD系統(tǒng)電爐是一家集研發(fā)、生產(chǎn)制造、營(yíng)銷(xiāo)服務(wù)為一體的的實(shí)驗(yàn)室電爐工作系統(tǒng)解決方案的提供者。作為實(shí)驗(yàn)室電加熱設(shè)備的生產(chǎn)廠(chǎng)家,在實(shí)驗(yàn)室電爐行業(yè)國(guó)內(nèi)市場(chǎng)一直保持著地位,并成為*品牌。

          通過(guò)公司技術(shù)人員的開(kāi)發(fā),zui近研制出多套CVD系統(tǒng),高真空CVD系統(tǒng)在碳納米材料,真空鍍膜領(lǐng)域廣泛使用,PE獲得客戶(hù)廣泛好評(píng)。

          CVD系統(tǒng)產(chǎn)品的特點(diǎn):
          1 CVD
          系統(tǒng)兼容、常壓、微正壓多種主流的生長(zhǎng)模式
          2 CVD
          系統(tǒng)可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進(jìn)行石墨烯的生長(zhǎng)
          3 CVD
          系統(tǒng)使用計(jì)算機(jī)控制,可以設(shè)置多種生長(zhǎng)參數(shù)
          4 CVD
          系統(tǒng)可以制備高質(zhì)量,大面積石墨烯等碳材料,尺寸可達(dá)數(shù)厘米,研究動(dòng)力學(xué)過(guò)程
          5 CVD
          系統(tǒng)沉積效率高;薄膜的成分可控,配比范圍大;厚度范圍廣,由幾百埃至數(shù)毫米,可以實(shí)現(xiàn)厚膜沉積且能大量生產(chǎn)

           

          佛爐

            

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