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1200℃滑動式單溫區/雙溫區/三溫區CVD系統
更新時間： 2024-10-28
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產品簡介： 產品用途：此款CVD系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結真空淬火退火，快速降溫等工藝實驗。
詳細資料：
1200℃滑動式單溫區/雙溫區/三溫區CVD系統產品用途：
此款CVD系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控
生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結真空淬火退火，快速降溫等工藝實驗。
產品組成：
CVD系統配置：
1、1200度開啟式真空管式爐（可選配多溫區）。
2、滑動系統分為手動、電動滑動，并配有風冷系統。
3、多路質量流量控制系統
4、真空系統（可選配中真空或高真空）
1200℃滑動式單溫區/雙溫區/三溫區CVD系統產品特點：
1、控制電路選用模糊PID程控技術，該技術控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。
2、中真空系統具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統采用高壓強，耐沖擊分子泵，防止意外漏氣造成分子泵損壞，延長系統使用壽命。
3、(電動)滑動系統采用溫度控制器自動控制爐體移動，等程序完成，爐體按設定的速度滑動，因有滑動限位功能爐體不會發生碰撞，待樣品露出爐體后，通過風冷系統快速降溫。
產品圖片：
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